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深圳市鑫环电子有限公司欢迎您!快速恢复二极管的内部结构与普通PN结二极管不同。它属于PIN结二极管,即在P型硅材料和N型硅材料之间加入I基,形成PIN硅片。由于PD的主要有源区是势垒区,所以可以通过加宽势垒区来提高灵敏度。事实上,PIN快速恢复二极管人为地扩大了PN结势垒区的宽度。PIN快速恢复二极管的有效作用面积主要是具有电场的I型层(势垒面积),因此产生光生载流子的有效面积增加,扩散的影响减弱,结电容大大减小。因此,其光学检测的灵敏度和响应速度大大提高。
快速恢复二极管的性能特性
1、结构特点
快速恢复二极管的内部结构与普通二极管不同。在P型和N型硅材料之间添加碱I以形成P-I-N硅芯片。由于基极区域非常薄,反向恢复电荷非常小,不仅trr值大大降低,而且瞬态正向压降也降低,因此管可以承受高反向操作电压。快速恢复二极管的反向恢复时间通常为几百纳秒,正向压降约为0.6V,正向电流为几安培至几千安培,反向峰值电压可达几百至几千伏特。超快恢复二极管。
2、反向恢复时间
反向恢复时间(tr)的定义:电流通过零点和正向转换到指定低值之间的时间间隔。它是衡量高频续流整流装置性能的重要技术指标。反向恢复电流波形如图1所示。IF是正向电流,IRM是最大反向恢复电流。Irr是反向恢复电流,通常指定Irr=0.1 IRM。当t≤t0时,正向电流I=IF。当t>t0时,整流器上的正向电压突然变为反向电压,因此正向电流迅速减小。当t=t1时,I=0。然后反向电流IR流过整流器,并且IR逐渐增加;在t=t2时达到最大反向恢复电流IRM值。此后,在正向电压的作用下,反向电流逐渐减小,并在t=t3处达到规定值Irr。从t2到t3的反向恢复过程类似于电容器放电过程。
鑫环电子主营产品为各类功率二极管、三极管、MOS场效应管等半导体电子元器件,产品广泛应用于电源、汽车电子、安防、工控、新能源等诸多领域。
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